光学冷加工用氧化铈抛光粉和磨料（混合稀土抛光粉，富铈）

氧化铈抛光粉

【应用领域】

各类光学元件（透镜、棱镜等）、人工晶体的高精密加工；
超薄平板玻璃基片的平坦化加工；
玻壳、镜片、表门的高速抛光；
大理石、水晶玻璃饰品的表面加工。

【产品性能】

Repolix 氧化铈抛光粉产品的特色：

(1) 抛光精度更高

采用纳米合成技术，通过控制沉淀过程的晶体形成与生长并防止焙烧过程的团聚，使得抛光粉颗粒更细、更均匀，所加工产品的成品率大大提高。

(2) 不同抛光工艺所用的抛光粉的性能各具特色

尽管过筛目数相同，但古典法低速抛光所用产品密度大、易沉降，而高速抛光工艺所用抛光粉具有悬浮性好，易重新分散，不产生泡沫，易清洗的特点，大大方便了工人的操作。

（3）品种齐全,更多选择

我公司采用纯氧化铈、镧铈富集物和混合稀土三种不同含铈量的稀土原料，配合不同的生产工艺，生产四大类18种各具特点的抛光粉产品，以满足用户对性能、价格等多层次的需求。

（4）质量优良，价格最优

由于本公司以稀土新产品开发为主营业务，因而在稀土原料的的获取和规模化生产方面具有优势，保证了产品价格的竞争力，力争做到产品的性能价格比最优。

【技术指标】

氧化铈磨料

型号		R112	R113	R114	R115	R116	R117
产品特性		颗粒大，浅黄色，比重大，流动性好。
应用领域		水晶、饰品抛光盘（粉盘）；聚胺酯抛光片、抛光轮添加材料；抛光蜡板添加；古典低速光学加工，尤其是透镜等球面加工；磨边与手修处理；
化学成分		TREO>99%, CeO2/TREO>99.9%
颗粒度	D10	> 15	> 12	> 8	> 6	> 4	> 1
	D50	28±5	24±2	20±2	16±2	12±2	4±2
	D90	< 80	< 60	< 45	< 32	< 24	< 12

纯氧化铈抛光粉

型号		R1305	R1312	R1318	R1326
产品特性		纯氧化铈抛光粉，颜色浅黄。悬浮性好，硬度中等。
适用领域		用于ZK、LaK等较软玻璃材料的快速抛光或较硬材料的高精度抛光，如玻璃磁盘，IC光掩膜、硅片等。
化学成分		TREO>95%, CeO2/TREO>99.9%
颗粒度	D10(um)	> 1.0	> 0.3	> 0.8	> 1.0
	D50(um)	0.5±0.2	1.2±0.2	1.8±0.2	2.6±0.4
	D90(um)	<4.0	< 5.0	< 6.0	< 10

富铈稀土抛光粉

型号		R2305	R2312	R2318	R2326
产品特性		富铈抛光粉，白色，硬度较高，悬浮性好。
适用领域		适用于较硬材料的光学加工，如K9，K7，超薄玻璃基片等的抛光等。
化学成分		TREO>95%, CeO2/TREO>70%
颗粒度	D10(um)	> 1.0	> 0.3	> 0.8	> 1.0
	D50(um)	0.5±0.2	1.2±0.2	1.8±0.2	2.6±0.4
	D90(um)	< 4.0	< 5.0	< 6.0	< 10

混合稀土抛光粉

型号		R3305	R3312	R3318	R3326
产品特性		通用型低铈抛光粉,棕红色，抛光速度快，价格低。
适用领域		适普通光学镜头、玻壳、镜片、平板玻璃、钮扣、水晶饰品、表门等材料的抛光。
化学成分		TREO>95%, CeO2/TREO>50%
颗粒度	D10(um)	> 0.1	> 0.3	> 0.8	> 1.0
	D50(um)	0.5±0.2	1.2±0.2	1.8±0.2	2.6±0.4
	D90(um)	< 4.0	< 5.0	< 6.0	< 10

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